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    四氟化碳废气处理

    由于四氟化碳是目前微电子工业中用量z大的等离子蚀刻气体,因而四氟化碳废气主要产生于半导体产业生产工艺等离子蚀刻。目前,半导体产业四氟化碳废气处理方法,主要是通过直接燃烧方法,热催化氧化方法,等离子体分解方法进行废气净化。


    四氟化碳气体排放量逐年増加,直接排放会造成空气污染,甚z人体吸入高浓度的四氟化碳会出现呼吸困难、呕吐等窒息症状。那么四氟化碳气体怎么处理?格林斯达废气处理公司为您介绍半导体行业四氟化碳废气处理方法如下:

    公司对半导体产业四氟化碳气体处理方法主要采用直接燃烧法(TO),也称为直接火焰燃烧,它是把废气中可燃的有害组分当做燃料直接烧掉,因此这种废气处理方法只适用于净化可燃有害组分浓度较高的废气,或者是用于净化有害组分燃烧时热值较高的废气,因为有燃烧时放出的热量能够补偿散向环境中的热量时,才能保持燃烧区的温度,维持燃烧的持续。

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